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九峰山實驗室推出全國首個100nm高性能氮化鎵流片PDK平臺
來源:研精畢智調研報告網 時間:2025-03-25

市場調研發(fā)現,3月24日,九峰山實驗室發(fā)布國內首個100 nm硅基氮化鎵商用工藝設計套(PDK),性能指標達到國內領先、國際一流水平。

作為全球第二個、國內首個商用方案,其技術指標可支撐高通量Ku/Ka頻段低軌衛(wèi)星通信,能夠滿足下一代移動通信、商用衛(wèi)星通信與航天領域、車聯(lián)網及工業(yè)物聯(lián)網、手機終端等多領域對高頻、高功率、高效率氮化鎵器件的需求,推動我國相關領域器件從“進口替代”邁向“技術輸出”。

PDK(Process Design Kit,工藝設計套件)是半導體制造中不可或缺的工具包。它為芯片設計者提供工藝參數、器件模型、設計規(guī)則等關鍵信息,快速實現從電路設計到實際制造的轉化,是連接芯片設計與制造的“橋梁”。

九峰山實驗室推出全國首個100nm高性能氮化鎵流片PDK平臺

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